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CVD-1200CVD管式炉

简要描述:

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所

 

CVD-1200系统由滑动式开启式真空管式炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温;配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。

技术参数:

炉体结构

双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温;

日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,保温性能好

炉子底部装有一对滑轨,移动平稳

炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却

支撑两端安装油压缓冲器

炉盖可开启,可以实时观察加热的物料

电源

电压:AC220V 50/60Hz;功率:4KW

炉管

高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小

尺寸:Φ40/60/80/100*1200mm

法兰及支撑

SUS304不锈钢快速法兰,通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空

一个卡箍就能完成法兰的连接,放、取物料方便快捷

可调节的法兰支撑,平衡炉管的受力支撑

包含进气、出气、真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合

加热系统

加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2,表面负荷高、经久耐用

加热区长度:440mm

恒温区长度:200mm

工作温度:≤1150

最高温度:1200

升温速率:10/min

温控系统

温度控制采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能30段升降温程序

测温元件:N型热电偶

恒温精度:±1

混气系统

三路质量流量计:数字显示、气体流量自动控制

内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀

管路采用不锈钢管,接口为Φ6卡套

每路气体进气管路配有不锈钢针阀

通过控制面板上的旋钮来调节气体流量

流量规格:0~1SLM

流量精度:±1.5%

真空系统

采用双极旋片真空泵,真空度可达5x10-1 Torr

数显式真空压力表

可选高真空系统及真空计,压力控制系统等

可选配件

混气系统,中、高真空系统,各种刚玉、石英坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪。

 

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